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HAUS LABS BY LADY GAGA

Base de Maquillaje Triclone Skin Tech™ Medium Coverage with Fermented Arnica - HAUS LABS

Base de Maquillaje Triclone Skin Tech™ Medium Coverage with Fermented Arnica - HAUS LABS

Precio habitual 141 USD
Precio habitual Precio de oferta 141 USD
Oferta Agotado
Detalle

Una base ligera y de cobertura media con árnica fermentada que ayuda a reducir el enrojecimiento y protege del estrés ambiental. Elaborada con más de 20 ingredientes para el cuidado de la piel, esta fórmula patentada ofrece un rendimiento ultra cómodo y de larga duración sin comprometer la piel. Su textura ingrávida, similar a un suero, difumina y suaviza perfectamente para un acabado natural y luminoso que dura todo el día. Sin resbalones ni apelmazamiento.

Este producto es un ganador del premio Allure Best of Beauty.

Hypoallergenic Hipoalergénica Natural Finish Acabado natural allure 2023 Clean Beauty Winner Ganador del premio Allure Clean Beauty 2023
Long-wearing Larga duración Cruelty-Free Cruelty free

 

Características

- Árnica Fermentada: ayuda a reducir visiblemente el enrojecimiento y la irritación.

- Intellizen 7 Complex™: mezcla patentada de hierbas medicinales que promueven la curación y la calma.

- BioFerment 7 Complex™: Mezcla patentada de súper antioxidantes que protegen la piel del estrés.


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