Base de Maquillaje Triclone Skin Tech™ Medium Coverage with Fermented Arnica - HAUS LABS
Base de Maquillaje Triclone Skin Tech™ Medium Coverage with Fermented Arnica - HAUS LABS
Detalle
Una base ligera y de cobertura media con árnica fermentada que ayuda a reducir el enrojecimiento y protege del estrés ambiental. Elaborada con más de 20 ingredientes para el cuidado de la piel, esta fórmula patentada ofrece un rendimiento ultra cómodo y de larga duración sin comprometer la piel. Su textura ingrávida, similar a un suero, difumina y suaviza perfectamente para un acabado natural y luminoso que dura todo el día. Sin resbalones ni apelmazamiento.
Este producto es un ganador del premio Allure Best of Beauty.
Hipoalergénica | Acabado natural | Ganador del premio Allure Clean Beauty 2023 |
Larga duración | Cruelty free |
Características
- Árnica Fermentada: ayuda a reducir visiblemente el enrojecimiento y la irritación.
- Intellizen 7 Complex™: mezcla patentada de hierbas medicinales que promueven la curación y la calma.
- BioFerment 7 Complex™: Mezcla patentada de súper antioxidantes que protegen la piel del estrés.